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網(wǎng)站首頁 產(chǎn)品系列 CVD系統(tǒng)/PECVD系統(tǒng) PECVD系統(tǒng) 1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

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1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
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1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

更新時(shí)間:2025-02-27

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品簡介:

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

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產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品應(yīng)用:

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品組成:

PECVD系統(tǒng)配置:

1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐

2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配置管內(nèi)測溫系統(tǒng)。

3.預(yù)加熱開啟式管式電爐

4.等離子射頻電源

5.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

6.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)  

產(chǎn)品特點(diǎn):

生長溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設(shè)備簡單。

天津中環(huán)電爐股份有限公司  地址:天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號(hào)

 

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